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鍍鋁聚酰亞胺(pi)薄膜工藝的優良性有哪些

發表時間:2020-10-27 17:09作者:大佳新材來源:網絡網址:http://www.jmpphils.com

真空鍍鋁薄膜是在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜的一種工藝,隨著基材薄膜、真空蒸鍍技術以及后處理工藝的發展,真空鍍鋁薄膜的功能和品種也在不斷的擴大,用途也越來越廣泛。


鍍鋁聚酰亞胺PI薄膜


聚酰亞胺(PI)薄膜鍍鋁后具有良好的耐高溫低溫、電氣絕緣、耐放射、耐介質性能,可以在-269--260℃范圍內長期使用,最高溫度可達400℃。鍍鋁膜既具有塑料薄膜的特性,又具有金屬的特性。薄膜表面的鍍鋁具有遮光、屏蔽、防紫外線照射等作用,可以延長內容物的保質期,提高了薄膜的亮度,在一定程度上取代了鋁箔,具有價廉、美觀、良好的阻隔性能。

  聚酰亞胺是目前為止聚合物中熱穩定性最高的品種之一。具有優秀的機械特性,能抵御極低溫,可以在-269℃ 的液氦中不脆斷。部分的聚酰亞胺還可以利用堿性水解回收原料二酐和二胺。

PI薄膜的熱膨脹系數較低,具有很高的輻射耐受性,其薄膜在5*109rad高速電子照射后強度保持率為90%。有著優良的介電性能,介電常數約為3.4,性能在較大的溫度范圍和頻率范圍內保持較高水平。

  聚酰亞胺是一種自熄性聚合物,發煙率低。在極高的真空中放氣量很小。

PI薄膜是無毒的經得起數千次的消毒,可以用于制造餐具和醫療器械,目前主要用于電子產業、電子膠帶產業、航空航天產業。太陽能產業、管道保溫和其他保溫行業。

  聚酰亞胺pi薄膜與碳纖維、芳綸纖維一起被認為是制約我國高技術產業發展的三大瓶頸性高分子材料。借著優異的性能,在絕緣材料、撓性覆銅板、繞包電磁線、高技術產業新型應用等多個領域發揮著不可替代的作用。


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